Aktualisierte Studie für die weltweite Glasindustrie 2024 jetzt verfügbar für Flach-, Hohlglas und Tableware

Wir haben unsere internationale Studie über die Glasindustrie (Flachglas, Hohlglas, Tableware) für 2024 aktualisiert.

Dieses Programm ermöglicht einen globalen Überblick über Glashersteller und technische Details. Übersichtliche und benutzerdefinierte Tabellen fassen die Informationen effizient zusammen wie z.B. Glastypen: Flachglas, Hohlglas, Tableware, Produktionskapazitäten in Kontinenten und Ländern, Ofenanzahl, Ofentypen, Baujahre, Glassorten und Unterkategorien, Produkte, Projekte, spezielle News und Downloads.

Weitere Datenbanken mit demoskopischen Daten und Import- und Exportdaten komplettieren die Marktinformationen. Basierend auf allen Datenbanken können Sie eigenständig Länderprofile mit Angaben zur gesamten lokalen Produktionskapazität, zur lokalen Marktgröße und die zu erwartende Marktgröße in der Zukunft erstellen.

Gerne erwarten wir daher Ihre Anfrage auf plants.glassglobal.com.

Updated container glass study 2024

X

Updated float glass study 2024

X

Further glass studies and reports 2024

X

Firmenverzeichnis

INFO

Dies sind die Basisdaten für das ausgewählte Unternehmen. Diese Firma stellt weitere Informationen wie z.B. Webseite, Telefon- und Fax-Nummern, Ansprechpartner, Firmengeschichte, Details bereit.

Um diese Informationen einzusehen benötigen Sie einen gültigen "Profile Access" für glassglobal.com. Die Konditionen können Sie über folgenden Link: Preis Info einsehen

login



Kontakt Info

Anschrift Echerkon Technologies Ltd.
20 Springfield Road,
Crawley, RH11 8AD
Land Großbritannien
Email Ihre Nachricht an Echerkon Technologies Ltd.

Produkte oder Maschinen

Welcome to Echerkon Technologies Ltd. We provide equipment, processes and consultancy to the Photovoltaic industry.

Our Nitor 301 system is a flexible R&D deposition tool which uses Hot Filament Chemical Vapour Deposition (HFCVD), also known as Hot Wire Chemical Vapour Deposition (HWCVD). The wide substrate temperature range of 350 °C to 700 °C enables deposition of amorphous, microcrystalline and crystalline silicon films on materials such as glass, ceramics or silicon.

We also have experience and contacts throughout the photovoltaic and semiconductor industries. We are specialists in the layout, planning and realisation of technological solutions for high vacuum systems and exhaust-stream treatment from CVD process facilities